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同样重要的是，氧在与大部分杂质反应的过程中都起到了一个器的作用，而这些杂质当它们溶解在铜基质中时对其特性和退火反应都有巨大的影响作用。相反，当这些杂质与不可溶解的氧化物混合在一起的时候，这些坏作用就被抵消了。从表3可以看出，ETP铜导电率的值是2ppm。因而，ETP铜中氧的含量大致在175和45ppm之间。由于分散杂质容易引起热裂，所以通常都尽量避免低氧值。相反，超于这一限制的氧气值并不常见，因为这对可成形性具有附作用。
